1200℃三溫區(qū)管式爐是實驗室多段溫場精準控制的核心設(shè)備，通過獨立控溫模塊實現(xiàn)爐膛三段區(qū)域溫度差異化調(diào)節(jié)，適配材料梯度熱處理、分步反應等復雜工藝，以下是詳細介紹：

核心配置與核心優(yōu)勢

配置模塊常見配置核心優(yōu)勢

加熱系統(tǒng)三段獨立鎳鉻合金電阻絲 / 硅碳棒加熱，每溫區(qū)均勻排布于爐體兩側(cè)鎳鉻電阻絲適配 1200℃長期穩(wěn)定工作，發(fā)熱均勻；三段獨立加熱可精準控制各區(qū)域溫差（±1℃），滿足梯度溫場需求，比單溫區(qū)機型適配性更強

爐膛與爐管爐膛為高純氧化鋁多晶纖維，爐管標配石英管 / 剛玉管，支持定制不同管徑陶瓷纖維保溫性優(yōu)，節(jié)能且升溫快；石英管適配中低溫、無腐蝕場景，剛玉管耐高溫性更強，可根據(jù)樣品特性靈活選擇，保障實驗安全性

控溫系統(tǒng)三臺 PID 智能溫控儀，標配 K 型 / S 型熱電偶，支持 30 段程序控溫每溫區(qū)獨立控溫、獨立編程，可實現(xiàn)不同區(qū)域升溫 / 恒溫 / 降溫曲線差異化設(shè)置；控溫精度達 ±1℃，部分機型帶 485 接口，支持遠程監(jiān)控與數(shù)據(jù)導出

安全與拓展雙層爐殼 + 風冷系統(tǒng)，具備超溫報警、漏電保護、開門斷電功能；部分機型支持氣氛通入 / 真空配置風冷系統(tǒng)使爐體表面溫度≤60℃，避免燙傷；氣氛 / 真空拓展可適配惰性氣體保護、低真空環(huán)境下的實驗，覆蓋更多復雜工藝場景

主流機型參考

關(guān)鍵參數(shù)特點

爐膛尺寸 Φ60×1000mm（加熱區(qū)總長 600mm，每溫區(qū) 200mm），功率 6KW，電壓 380V三段獨立控溫，支持氣氛通入，適配材料梯度退火、分步燒結(jié)實驗，性價比高，適合高?；A(chǔ)科研

典型應用場景

材料梯度熱處理：金屬材料的分段退火 / 回火，通過不同溫區(qū)控制實現(xiàn)晶粒梯度生長，優(yōu)化材料力學性能；陶瓷材料的梯度燒結(jié)，解決坯體內(nèi)外溫差導致的開裂問題，提升成品率。

分步反應與合成實驗：化學材料的多步合成反應，如先低溫預熱、中段主反應、末端保溫熟化，通過三溫區(qū)精準控溫保障反應分步進行，提升產(chǎn)物純度；催化劑的分段活化，實現(xiàn)活性組分梯度負載。

半導體與電子材料加工：半導體薄膜制備中的分步鍍膜工藝，不同溫區(qū)對應薄膜生長的不同階段，優(yōu)化膜層結(jié)構(gòu)與附著力；電子陶瓷元件的分段燒結(jié)，避免內(nèi)部電極氧化，提升元件可靠性。

科研實驗與教學：高?？蒲性核_展材料溫場影響研究，如測試不同溫度區(qū)域?qū)Σ牧舷嘧?、微觀結(jié)構(gòu)的影響；同時可作為教學設(shè)備，直觀展示溫場梯度控制原理與應用。